JELIGHT UVO-Cleaner Model 42  紫外臭氧清洗機(jī)

簡(jiǎn)介

UV+O(原子氧)清潔法是一種光敏氧化過程，其中光抗蝕劑、樹脂、人體皮膚油、清潔溶劑殘留物、硅油和助熔劑的污染物分子通過短波紫外線輻射的吸收被激發(fā)和/或解離。分子氧經(jīng)184.9nm分解，臭氧經(jīng)253.7nm分解，同時(shí)生成原子氧。

253.7nm輻射被大多數(shù)碳?xì)浠衔锖统粞跷?。污染物分子的這種激發(fā)產(chǎn)物與氧原子反應(yīng)，形成更簡(jiǎn)單的揮發(fā)性分子，從表面解吸。因此，當(dāng)兩種波長(zhǎng)同時(shí)存在時(shí)，原子氧不斷產(chǎn)生，臭氧不斷形成和破壞。

通過將適當(dāng)?shù)念A(yù)清潔樣品放置在臭氧產(chǎn)生UV源的5毫米范圍內(nèi)，例如UVO-Cleaner®內(nèi)部的低壓汞蒸汽網(wǎng)格燈，可以在不到一分鐘的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)接近原子清潔的表面。此外，該工藝不會(huì)損壞MOS柵氧化物的任何敏感器件結(jié)構(gòu)。

ufo - cleaner®是去除硅，砷化鎵，石英，藍(lán)寶石，玻璃，云母，陶瓷，金屬和導(dǎo)電聚酰亞胺水泥中的有機(jī)污染物的安全，有效的方法。它的建造壽命長(zhǎng)，維護(hù)成本低，服務(wù)無故障。

應(yīng)用程序:

•在薄膜沉積/剝離和穩(wěn)定光刻膠之前清洗襯底

•硅片、透鏡、反射鏡、太陽能電池板、冷軋鋼、慣性制導(dǎo)子組件和GaAs晶圓的清洗

•焊劑、混合電路和平板LCD的清洗

•蝕刻Teflon®，Viton®和其他有機(jī)材料

•增強(qiáng)GaAs和Si的氧化鈍化表面

•減少玻璃的放氣

去除晶圓膠帶

•提高涂料對(duì)塑料的附著力

•測(cè)試后從晶圓上去除油墨

•剝離光刻膠

•從光刻板中去除潛在圖像

•清洗光刻版

•在硅片上生長(zhǎng)氧化層

•在包裝/粘合前清洗電路板

•增加表面親水特性

•生物科學(xué)應(yīng)用的清洗和滅菌

•清洗電子顯微鏡探針/載玻片或光纖/透鏡

 

紫外清洗優(yōu)點(diǎn)

1. 被清洗的表面除了光子，不與任何物體發(fā)生接觸，有機(jī)物經(jīng)過紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應(yīng)后，生成可揮發(fā)性氣體 （CO2、CO、H2O） 等從表面消散，隨著排風(fēng)系統(tǒng)抽走。

2. 表面潔凈度高，且不會(huì)像溶液清洗時(shí)發(fā)生二次污染。

3. 光清洗的表面不會(huì)受到損傷，由于光子的能量相對(duì)比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不會(huì)受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。

4. 光清洗對(duì)物體表面微細(xì)部位（如孔穴、微細(xì)溝槽等）具有有效而徹底的清洗效果。 由于紫外光是納米短波紫外線，能夠射入材料表面的極為細(xì)微的部位，發(fā)生光敏氧化反應(yīng)，充分表現(xiàn)出光清洗的徹底性。

 

可選設(shè)備：

所有裝置均配有臭氧殺滅器和鼓風(fēng)機(jī)套件，無需外部排氣即可使用該裝置。臭氧殺手將解離排氣中的微量臭氧，而鼓風(fēng)機(jī)將增加排氣流量。

 

單位尺寸可根據(jù)客戶需求定制?？赡苄枰Ц额~外費(fèi)用。

 

設(shè)備提供以下電源配置：

120V/60Hz 220V/50Hz

 

220V/60Hz

100V 50/60Hz

 

**臭氧濃度以及樣品與紫外線源之間的距離會(huì)極大地影響清潔速率。

Outer Dimensions

Length      Width         Height        Exhaust Port        Media Inlet Port (2x)

350 mm   220 mm     225 mm      50.8 mm               9.5 mm 

Tray Dimensions

Width        Length          Height (Adjustment Range)

165 mm    165 mm]       6 mm ~ 38 mm 

Grid Lamp

Type                                                      Average Intensity                        Distance Measured Away From Lamp

Low Pressure Mercury (Hg) Vapor      28 ~ 32 mW/cm² @ 253.7 nm              .12” ~ .20” [3 ~ 5 mm]

Electrical Characteristics

Output Power

Voltage                  Current

6000 Vpeak-peak    30 mA

Available Input Power Requirements

Model                     Voltage                             Frequency             Current

42                              120 VAC                          60 Hz                    2.0 A

42-220                      220 VAC                         50 Hz                    3.0 A

42-220-60                 220 VAC                         60 Hz                    2.0 A

42-100                      100 VAC                         50/60 Hz                    2.0 A

42 W/ ELAPSE TIMER        120 VAC, 220VAC          60 Hz, 50Hz                    2.0 A, 3.0A

 

Q： 某大學(xué)PLD 腔體鍍膜臭氧實(shí)驗(yàn)現(xiàn)場(chǎng)
A：某大學(xué)PLD 腔體鍍膜臭氧實(shí)驗(yàn)現(xiàn)場(chǎng) 臭氧在 PLD 腔體鍍膜中主要起到改善膜層性能的作用。具體表現(xiàn)為在一定條件下，臭氧可；

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Q： 中科院管式爐臭氧淬火實(shí)驗(yàn)現(xiàn)場(chǎng)
A：中科院管式爐臭氧催化實(shí)驗(yàn)現(xiàn)場(chǎng) 管式爐臭氧淬火實(shí)驗(yàn)的主要目的是研究臭氧在高溫條件下對(duì)材料表面改性的影響。通過臭氧與材料表面；

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Q： 南開大學(xué)臭氧分解催化劑評(píng)價(jià)實(shí)驗(yàn)
A：南開大學(xué)臭氧分解催化劑評(píng)價(jià)實(shí)驗(yàn) 臭氧分解催化劑評(píng)價(jià)實(shí)驗(yàn)的主要目的是評(píng)估催化劑在分解臭氧（O?）過程中的性能，確保其在實(shí)際；

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Q： 某醫(yī)科大學(xué)臭氧小鼠暴漏實(shí)驗(yàn)現(xiàn)場(chǎng)
A：某醫(yī)科大學(xué)臭氧小鼠暴漏實(shí)驗(yàn)現(xiàn)場(chǎng) 臭氧小鼠暴露實(shí)驗(yàn)的主要目的是研究臭氧對(duì)生物體的毒性作用及其機(jī)制，評(píng)估長(zhǎng)期或短期暴露于臭氧；

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Q： 臭氧催化氧化實(shí)驗(yàn)去除COD
A：臭氧催化氧化實(shí)驗(yàn)去除COD 臭氧催化氧化實(shí)驗(yàn)去除樣品水中COD，配置包括3S-T10臭氧發(fā)生器、3S-J5000臭氧檢測(cè)；

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Q： 臭氧催化劑分解實(shí)驗(yàn)
A：臭氧催化劑分解實(shí)驗(yàn) 使用UV-S-CN臭氧發(fā)生器產(chǎn)生40ppm臭氧濃度，將臭氧通入微型反應(yīng)器中，研究臭氧催化劑分解效率。；

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Q： 清華大學(xué)臭氧催化氧化實(shí)驗(yàn)現(xiàn)場(chǎng)
A：清華大學(xué)臭氧催化氧化實(shí)驗(yàn)現(xiàn)場(chǎng) 清華大學(xué)采購(gòu)?fù)?S-T10臭氧發(fā)生器和3S-J5000臭氧在線檢測(cè)儀，進(jìn)行臭氧催化氧化實(shí)；

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Q： 臭氧微納米氣泡機(jī)曝氣系統(tǒng)
A：臭氧微納米氣泡機(jī)曝氣系統(tǒng) 臭氧微納米氣泡機(jī)曝氣系統(tǒng)包括臭氧發(fā)生器、臭氧檢測(cè)儀、臭氧納米氣泡機(jī)或臭氧反應(yīng)器、臭氧尾氣分解器；

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Q： 不同材料在管式爐實(shí)驗(yàn)中臭氧退火的參數(shù)差異有哪些？
A：不同材料在管式爐實(shí)驗(yàn)中臭氧退火的參數(shù)差異有哪些？不同材料在管式爐實(shí)驗(yàn)中，臭氧退火的參數(shù)存在著多種差異。以下將從多個(gè)方面進(jìn)；

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Q： 管式爐臭氧退火實(shí)驗(yàn)方案設(shè)計(jì)
A：管式爐臭氧退火實(shí)驗(yàn)方案設(shè)計(jì) 一、實(shí)驗(yàn)?zāi)康?本實(shí)驗(yàn)旨在利用管式爐和臭氧發(fā)生器進(jìn)行退火處理，以研究特定材料在臭氧環(huán)境下的物理；

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Q： PLD 腔體鍍膜實(shí)驗(yàn)臭氧工藝流程
A：PLD 腔體鍍膜實(shí)驗(yàn)臭氧工藝流程 臭氧通入到 PLD 中進(jìn)行腔體鍍膜是一項(xiàng)具有一定技術(shù)難度的實(shí)驗(yàn)，需要謹(jǐn)慎操作并準(zhǔn)備合適；

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Q： 臭氧通入管式爐淬火實(shí)驗(yàn)怎么配置
A：臭氧通入管式爐淬火實(shí)驗(yàn)怎么配置 現(xiàn)在需要幫用戶提供一個(gè)管式爐淬火實(shí)驗(yàn)中使用臭氧發(fā)生器，要求爐內(nèi)臭氧濃度達(dá)到6mg/L,如；

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Q： 實(shí)驗(yàn)室用臭氧發(fā)生器的使用方法
A：實(shí)驗(yàn)室用臭氧發(fā)生器的使用方法 臭氧實(shí)驗(yàn)的主要目的是研究和評(píng)估臭氧在不同條件下的生成、分解及其對(duì)環(huán)境和生物的影響。針對(duì)不同；

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Q： 臭氧濃度對(duì)烯烴氧化實(shí)驗(yàn)的影響有哪些差異？
A：臭氧濃度對(duì)烯烴氧化實(shí)驗(yàn)的影響有哪些差異？ 烯烴在不同反應(yīng)體系下，臭氧濃度對(duì)其氧化實(shí)驗(yàn)會(huì)產(chǎn)生多方面的影響，以下將詳細(xì)闡述這；

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Q： 臭氧發(fā)生器產(chǎn)量的標(biāo)準(zhǔn)單位是什么？
A：臭氧發(fā)生器產(chǎn)量的標(biāo)準(zhǔn)單位主要有以下幾種： 質(zhì)量單位 克 / 小時(shí)（g/h）：這是最常見的單位，表示臭氧發(fā)生器每小時(shí)能夠產(chǎn)；

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Q： 臭氧分解催化劑評(píng)價(jià)實(shí)驗(yàn)?zāi)康?/a>
A：臭氧分解催化劑評(píng)價(jià)實(shí)驗(yàn)?zāi)康?臭氧分解催化劑評(píng)價(jià)實(shí)驗(yàn)的主要目的是評(píng)估催化劑在分解臭氧（O?）過程中的性能，確保其在實(shí)際應(yīng)用；

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Q： 臭氧陶瓷膜曝氣試驗(yàn)裝置材料與檢測(cè)方法
A：臭氧陶瓷膜曝氣試驗(yàn)裝置材料與檢測(cè)方法 1.材料與方法 1.1試劑與儀器 試劑:苯酚、磷酸、磷酸氫二鈉、靛藍(lán)二磺酸鈉、硫代

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Q： 吳德禮教授：多羥基亞鐵耦合臭氧同步去除重金屬和有機(jī)物——以C
A：吳德禮教授：多羥基亞鐵耦合臭氧同步去除重金屬和有機(jī)物以Cu（Ⅱ）-EDTA去除為例 創(chuàng)新點(diǎn) 重金屬-有機(jī)絡(luò)合物廢水因其難

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Q： 恭喜馬老師論文發(fā)表：臭氧催化氧化處理焦化廢水尾水的催化劑適配
A：恭喜馬老師論文發(fā)表：臭氧催化氧化處理焦化廢水尾水的催化劑適配研究 馬 棟,段 超,王亞強(qiáng),等.臭氧催化氧化處理焦化廢水尾

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Q： 臭氧處理絮凝膜濃縮物中OBPs的分子特征和形成研究
A：臭氧處理絮凝膜濃縮物中OBPs的分子特征和形成研究 垃圾滲濾液是在垃圾填埋場(chǎng)和廢物發(fā)電廠(臨時(shí)廢物掩體)處置城市固體廢物

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Q： 恭喜山西大學(xué)秦老師關(guān)于小鼠臭氧實(shí)驗(yàn)論文發(fā)表
A：介紹 據(jù)估計(jì)，2021年全球20-79歲人群的糖尿病患病率為10.5%，涉及約5.366億人(Sun et al.， 2

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Q： 【ESE研究論文】臭氧催化劑定制化制備方法
A：【ESE研究論文】基于熒光光譜和機(jī)器學(xué)習(xí)的臭氧催化劑定制化制備方法 文章亮點(diǎn) 1. 臭氧催化劑配方是通過建模為目標(biāo)廢水定

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Q： 電催化氧化處理市政污水的實(shí)驗(yàn)研究
A：電催化氧化處理市政污水的實(shí)驗(yàn)研究 摘要:為將市政污水廠排放標(biāo)準(zhǔn)提升至準(zhǔn)IV類標(biāo)準(zhǔn),以東營(yíng)市某市政污水處理廠生化出水為研究

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Q： O3/TiO2-NF/H2O2 工藝深度處理焦化廢水
A：O3/TiO2-NF/H2O2 工藝深度處理焦化廢水 本文研究了在恒定臭氧濃度(84mg/L)下,不同H2O2投加量(以

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