?
JELIGHT UVO-Cleaner Model 42 紫外臭氧清洗機簡介UV+O(原子氧)清潔法是一種光敏氧化過程,其中光抗蝕劑、樹脂、人體皮膚油、清潔溶劑殘留物、硅油和助熔劑的污染物分子通過短波紫外線輻射的吸收被激發(fā)和/或解離。分子氧經(jīng)184.9nm分解,臭氧經(jīng)253.7nm分解,同時生成原子氧。253.7nm輻射被大多數(shù)碳氫化合物和臭氧吸收。污染物分子的這種激發(fā)產物與氧原子反應,形成更簡單的揮發(fā)性分子,從表面解吸。因此,當兩種波長同時存在時,原子氧不斷產生,臭氧不斷形成和破壞。通過將適當?shù)念A清潔樣品放置在臭氧產生UV源的5毫米范圍內,例如UVO-Cleaner®內部的低壓汞蒸汽網(wǎng)格燈,可以在不到一分鐘的時間內實現(xiàn)接近原子清潔的表面。此外,該工藝不會損壞MOS柵氧化物的任何敏感器件結構。ufo - cleaner®是去除硅,砷化鎵,石英,藍寶石,玻璃,云母,陶瓷,金屬和導電聚酰亞胺水泥中的有機污染物的安全,有效的方法。它的建造壽命長,維護成本低,服務無故障。應用程序:•在薄膜沉積/剝離和穩(wěn)定光刻膠之前清洗襯底•硅片、透鏡、反射鏡、太陽能電池板、冷軋鋼、慣性制導子組件和GaAs晶圓的清洗•焊劑、混合電路和平板LCD的清洗•蝕刻Teflon®,Viton®和其他有機材料•增強GaAs和Si的氧化鈍化表面•減少玻璃的放氣去除晶圓膠帶•提高涂料對塑料的附著力•測試后從晶圓上去除油墨•剝離光刻膠•從光刻板中去除潛在圖像•清洗光刻版•在硅片上生長氧化層•在包裝/粘合前清洗電路板•增加表面親水特性•生物科學應用的清洗和滅菌•清洗電子顯微鏡探針/載玻片或光纖/透鏡紫外清洗優(yōu)點1. 被清洗的表面除了光子,不與任何物體發(fā)生接觸,有機物經(jīng)過紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應后,生成可揮發(fā)性氣體 (CO2、CO、H2O) 等從表面消散,隨著排風系統(tǒng)抽走。2. 表面潔凈度高,且不會像溶液清洗時發(fā)生二次污染。3. 光清洗的表面不會受到損傷,由于光子的能量相對比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小,光清洗后的表面不會受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。4. 光清洗對物體表面微細部位(如孔穴、微細溝槽等)具有有效而徹底的清洗效果。 由于紫外光是納米短波紫外線,能夠射入材料表面的極為細微的部位,發(fā)生光敏氧化反應,充分表現(xiàn)出光清洗的徹底性。可選設備:所有裝置均配有臭氧殺滅器和鼓風機套件,無需外部排氣即可使用該裝置。臭氧殺手將解離排氣中的微量臭氧,而鼓風機將增加排氣流量。單位尺寸可根據(jù)客戶需求定制。可能需要支付額外費用。設備提供以下電源配置:120V/60Hz 220V/50Hz220V/60Hz100V 50/60Hz**臭氧濃度以及樣品與紫外線源之間的距離會極大地影響清潔速率。
Outer DimensionsLength Width Height Exhaust Port Media Inlet Port (2x)350 mm 220 mm 225 mm 50.8 mm 9.5 mm
Tray DimensionsWidth Length Height (Adjustment Range)165 mm 165 mm] 6 mm ~ 38 mm
Grid LampType Average Intensity Distance Measured Away From LampLow Pressure Mercury (Hg) Vapor 28 ~ 32 mW/cm² @ 253.7 nm .12” ~ .20” [3 ~ 5 mm]
Electrical CharacteristicsOutput PowerVoltage Current6000 Vpeak-peak 30 mA
Available Input Power RequirementsModel Voltage Frequency Current42 120 VAC 60 Hz 2.0 A42-220 220 VAC 50 Hz 3.0 A42-220-60 220 VAC 60 Hz 2.0 A42-100 100 VAC 50/60 Hz 2.0 A42 W/ ELAPSE TIMER 120 VAC, 220VAC 60 Hz, 50Hz 2.0 A, 3.0A
與UVO-Cleaner Model42臭氧清洗機相關的實驗現(xiàn)場
Q:臭氧含量安全標準
A:臭氧(O?)又稱為超氧,是氧氣(O?)的同素異形體,在常溫下,它是一種有特殊臭味的淡藍;
Q:什么是臭氧高級氧化法
A:高級氧化技術又稱做深度氧化技術,以產生具有強氧化能力的羥基自由基(OH)為特點,在高溫高;
Q:不同臭氧濃度對BAC出水中DOM的影響
A:不同臭氧濃度對BAC出水中DOM的影響 DOM的3D-EEM分析 不同臭氧濃度條件下臭氧和BAC出水熒光特征如;
Q:如何閱讀臭氧發(fā)生器性能圖表
A:如何閱讀臭氧發(fā)生器性能圖表 每個 臭氧發(fā)生器 都有額定值來描述與其他臭氧發(fā)生器相關的臭;
Q:pH對催化臭氧化處理效果的影響
A:pH 對催化臭氧化處理效果的影響 在催化劑投加量為 30%, 臭氧流量為 3 L/min的條件下, 設置廢水初;
Q:O3+UV降解耐臭氧微量有機污染物(OR-MOPs)研究
A:O3+UV降解耐臭氧微量有機污染物(OR-MOPs)研究 一、摘要 臭氧(O3)已被廣泛應用于水深度處理中;
Q:Mazzei射流器性能表選款指南
A:Mazzei射流器性能表選款指南 Mazzei射流器是非常高效,緊湊的差壓射流器與內部混合葉片。當專;
Q:催化臭氧化工藝參數(shù)及影響因素
A:催化臭氧化工藝參數(shù)及影響因素 來源:馬魯銘 鐵基催化劑催化臭氧 公眾號 不知道是否有天生;
Q:O3-BAC深度處理石化廢水廠尾水特性及菌群結構分析
A:石油化工廢水(石化廢水)種類繁多、成分復雜、污染物濃度較高、部分有機物具有生物或環(huán)境毒;
Q:研究臭氧氧化對生活污水的急性毒性變化的影響
A:我國是世界上水資源短缺最為嚴重的國家之一,城市污水回用是解決水資源短缺的有效途徑。城;
Q:催化劑制備工藝和反應操作條件對廢水COD去除率的影響
A:催化劑制備工藝和反應操作條件對廢水COD去除率的影響 近年來,難降解有機污染物的降解問題;
Q:臭氧催化氧化對垃圾滲濾液水質的影響
A:臭氧催化氧化對垃圾滲濾液水質的影響 垃圾滲濾液是一種高濃度、難降解廢水, 污染物成分復;
Q:探討催化臭氧氧化法在有機廢水處理中的應用
A:探討催化臭氧氧化法在有機廢水處理中的應用 引言:近幾年,我國的工業(yè)進入到快速發(fā)展時期;
Q:微納米氣泡臭氧高級氧化工藝處理電鍍廢水的中試
A:微納米氣泡臭氧高級氧化工藝處理電鍍廢水的中試 楊亞紅,蘆婉蒙,蘭清泉,李 攀(1. 蘭州理工大;
Q:臭氧與多種煙氣污染物的反應動力學機理研究
A:臭氧與多種煙氣污染物的反應動力學機理研究 邵嘉銘1,王智化1,林法偉2,唐海榮1,許巖韋;
Q:鼓泡塔污泥臭氧化效率及影響因素分析
A:摘要: 采用鼓泡塔反應器開展污泥臭氧化研究,考察了臭氧濃度、污泥濃度、臭氧投加量對污泥;